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    江门不锈钢除蜡水:铝合金微弧氧化的原理

    作者:  来源:   更新时间:2022-04-11  阅读数:2

      微弧氧化又叫等离子体微弧氧化,是在阳极氧化的基础上发展起来的,在金属表面原位生长陶瓷层的一种表面处理技术。微弧氧化的生成陶瓷膜层的过程一般为:将Al、Mg、Ti及Zr等轻金属或其合金置于电解质溶液中,当施加在电极两端的电压达到临界值时,工作电极表面会出现电晕、辉光、火花放电及弧放电等现象,这种微区放电现象在工作电极表面不同的位置不断间歇重复出现,表金属面生成的氧化膜被击穿,瞬间温度可达2000℃,氧化膜在高温高压作用下熔融,等离子弧消失以后,熔融物急速冷却形成陶瓷层。

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           微弧氧化膜层的生长是一个“成膜—击穿—熔化—烧结—再成膜”的多次循环过程。微弧氧化装置的基本构。 镁合金微弧氧化形成的膜层主要分为过渡层、致密层、疏松层。疏松层是由很硬的、孔隙较大的物质组成,表面疏松且粗糙,易打磨掉。致密层是微弧氧化层的主体,约占氧化层总厚度的60% ~70%,该层致密、孔隙小,每个孔隙的直径约为几微米,孔隙率在5%以下,主要是镁的氧化物,硬度高且磨损。过渡层为界面层,是微弧氧化膜层与基体的交界处。过渡层凹凸不平,与基体相互渗透,使微弧氧化膜层与基体结合牢固,属典型的冶金结合。 当微弧氧化基体材料选定时,微弧氧化膜层的厚度与形貌主要受到电解液体系、电源类型、工作模式、电参数等的影响。与化学转化、阳极氧化技术相比,镁合金微弧氧化制备的膜层厚度可控,耐蚀性和磨损性也更优异,该方法已被证明是提高镁合金的耐蚀和磨损性能的有作用的途径,但微弧氧化膜层表面的微孔隙是限制耐蚀性提高的主要因素,需采用有作用的的封孔技术才能大幅度提高镁合金的耐蚀性能。

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